鍍膜行業（yè）的鍍膜原理（lǐ）和流程是很複雜的，整個鍍膜流程也是很周密。因為任何一個環節出現問題，都會造成（chéng）後期膜層的質量問題因此（cǐ），真空鍍（dù）膜機鍍膜原理和流程，是眾多商家關（guān）注的問題。
　　真（zhēn）空鍍膜機真空管鍍膜的原理是電子在電場的（de）作用下加速飛向基片的過程中與氬原子（zǐ）發生碰撞，電（diàn）離出大量的氬（yà）離子和（hé）電（diàn）子（zǐ），電子飛向基片。氫離子在電場的作用下加速轟（hōng）擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原（yuán）子（或分子）沉積在基片上成膜。
　　二次電子在加速（sù）飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束（shù）縛在靠近靶麵的等離子體區域內，該區域內等離子體密度（dù）很（hěn）高，二次電子在磁場的（de）作用下圍繞靶麵作圓周（zhōu）運動，該電子的運動路徑很（hěn）長，在（zài）運動過程中不斷的與（yǔ）氬原子發生碰撞電離出大量的氬（yà）離子轟擊靶材，經過多次（cì）碰撞後電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，沉積在基片上。現在加上中（zhōng）頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜（mó）體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊（jī）靶（bǎ）材，濺射（shè）出大量的靶材原子，呈中（zhōng）性的靶原子（或分子）沉積在基片上成（chéng）膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品（pǐn）種，如鍍鈦鍍錯等（děng）等。