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真空(kōng)鍍膜設備

科技創新為動力 專業服務為(wéi)目標

磁控濺射鍍膜設備


  真空鍍膜具有以下特點:
  高電(diàn)阻負。真空鍍膜後的RT量大大減少。鍍鋁前後阻隔性能與老化2、15和CPP的比較
  在軟包裝中,使用較廣的(de)鍍鋁膜是PM和CPP滲鋁(lǚ)膜,分為普通真空鍍鋁膜(mó)和增強(qiáng)滲鋁膜兩(liǎng)種。
  普通真空(kōng)滲鋁膜是一種在高真空狀態下(xià)將蒸氣沉澱並堆積(jī)在基膜上的薄膜。滲鋁層厚度一般在3邊左右(如某企業標推要求,鍍鋁層厚度為(wéi)350Ai8%)。8%)。真空滲(shèn)鋁膜不但具有(yǒu)原基膜的力學性能(néng),而且具有較強的裝飾性和較好的阻隔性。
  滲鋁後的(de)蒸汽和氧氣透過(guò)率(lǜ)和透(tòu)光率大大降(jiàng)低,可用(yòng)作(zuò)較好的阻(zǔ)隔(gé)材(cái)料。

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