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真空鍍膜設備

科技創（chuàng）新為動（dòng）力 專業服務（wù）為目標
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常規配置
► 真空泵係統
低真空泵（bèng）：旋片式（shì）機械泵（蒸（zhēng）壓（yā）機械（xiè）泵：930m3 h-1）
高真空泵：擴散泵（bèng）（選擇：低（dī）溫泵或（huò）滑輪分子泵）

► 真空閥係統
型號：3/8”，2”，4”，22“

► 真（zhēn）空室加（jiā）熱係統
高溫度：0到400℃
型（xíng）號：滷素燈（選擇：微型加熱器）
基片型號：球麵型或行星型（xíng）
轉速：0到30轉速/分
軟起，軟停，可調速瀘

► 電子控製係統
型號：計算機控製麵板
可修改和改變任何需要的控製
全程控製鍍膜以達到產品所（suǒ）需的要（yào）求
提供所需要的技術信息

► 真空計係統
高真空感應器：2
低真空感應器（qì）：1		 選擇配置
► 薄膜沉積（jī）控製係統
沉積控製：IC-5 （INFICON）
MDC360 （MAXTEK）等等
石英晶髓感應（yīng）器:1，2，6頭

► 光控離子源
無柵型：直流型
燈絲型：直流型，頻射型

► 電子束源
容量：15cc，25cc，40cc等等
偏（piān）轉角度：180度或270度
坩鍋：4，6，8倜等等（děng）

► 深冷（lěng）係統
除（chú）霜室
擴散（sàn）泵（bèng）

► 水冷卻係統
水或氣冷卻器
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