多弧離子鍍膜機是近年新開發的真（zhēn）空離子鍍膜技術（shù），利用真空狀（zhuàng）態下弧光放電原理的（de）離子鍍膜技術（shù），是先發展起來的真空鍍膜方（fāng）式，具有沉積速率高快，結合牢（láo）固，設備運行（háng）穩定等優點（diǎn），我公司在傳統多弧的基礎上（shàng），封靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率，細化顆粒，膜層和基材（cái）結合牢固，膜層更加致密，硬（yìng）度耐磨性提高，適用於鍍製裝飾膜如：金色的氮化鈦，黑色碳（tàn）化鈦，七彩的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐觸膜（如AL、Cr不鏽鋼及TIN等）和耐磨（mó）膜。膜層與基底結合牢固，適合於手（shǒu）表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的發展（zhǎn）前景。

設備特性
       生產同期：生產同期短-270sec/1同期（qī）（幹燥無（wú）大量放氣產品條件）
       鍍膜材料：通用於各種金屬鍍膜（鋁、鎳（niè）、銅、鉻……等（děng）金（jīn）屬（shǔ）材料）
       鍍（dù）膜方（fāng）式：金屬濺射鍍膜，膜厚分布均勻
       鍍膜品質：亮度高、附著力強
       鍍膜（mó）速度：兩個20Kw大功率磁控（kòng）製濺射（shè）電機，可以調動功率（lǜ）來控製鍍膜速（sù）度
       除濕能力：真（zhēn）空室內裝有雩下140度以（yǐ）下的低溫冷凍係統，充分吸收濕氣提高真空到達速度
       運營（yíng）費（fèi）用：濺射電極是自行開發產品，大大提高了靶（bǎ）材的（de）使（shǐ）用效（xiào）率
       占地麵精：在固定位置進行上（shàng）料和下料隻要很小的操作空間
       操作方法：人機界麵可以直觀的進行設置和監控，設有管（guǎn）理密碼無關人（rén）員無（wú）法更改
       售後服務：設有售後服務中心和配件倉（cāng）庫，可以快速處理使用中（zhōng）的問題

設備（bèi）原理圖示
       在（zài）適當的（de）真（zhēn）空環境下，接通高壓電源，在蒸發（fā）源（yuán）與（yǔ）基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區，基片（piàn）電（diàn）極上接（jiē）直流負（fù）高壓，從而形成輝光放電陰極，鍍（dù）料氣化（huà）原子進入此區域與惰性氣體離子及電子發生碰撞，離化後的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表麵，將蒸發物或其反（fǎn）應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖