多弧離子鍍膜機是近（jìn）年新開發的真空離子鍍膜技術，利用真空狀態下弧光放電原理的（de）離子鍍膜技術，是先（xiān）發展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高（gāo）快，結合牢固，設備運行穩定（dìng）等優點，我公司在傳統多（duō）弧的基礎上，封（fēng）靶結構、磁鐵、冷（lěng）卻等進行了嚴格的改進（jìn）和設計，提高了離化率，細化顆粒，膜層和基材結合牢固，膜層更加致（zhì）密，硬度耐磨性提高，適用於（yú）鍍製裝飾膜如：金色的氮化（huà）鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐（fǔ）觸膜（如AL、Cr不鏽鋼及TIN等）和耐磨膜。膜層與基底結合牢（láo）固，適合（hé）於手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模（mó）具等。具有很好的發展前景。

設備特性
       生產同期：生產同期短-270sec/1同期（幹燥無大量放氣產（chǎn）品（pǐn）條件）
       鍍（dù）膜材料（liào）：通用於各種金屬鍍膜（鋁、鎳、銅、鉻（gè）……等金屬材（cái）料）
       鍍膜方式：金屬濺射鍍膜，膜厚分（fèn）布均勻
       鍍膜品質（zhì）：亮（liàng）度高、附著力強
       鍍（dù）膜速度：兩個20Kw大功率（lǜ）磁控製（zhì）濺射電機（jī），可以調動功率（lǜ）來控製鍍膜速度（dù）
       除濕能力：真空室內（nèi）裝有雩下（xià）140度以下（xià）的低（dī）溫冷凍係統，充分吸收濕氣提高真空到達速度
       運營費用（yòng）：濺射電極是自行開（kāi）發產品，大大提高了靶材的使用效率
       占地麵精：在固定位置進行（háng）上料和下料隻（zhī）要很小（xiǎo）的操作空間
       操作方法：人機界麵可（kě）以直觀的（de）進行設（shè）置和監控，設有（yǒu）管理密碼無關人員無法更改
       售後服（fú）務（wù）：設有售後服務中心和配件倉庫，可以快（kuài）速處理使（shǐ）用中的問題

設備原理圖示
       在適當的真空環境下（xià），接通高壓電（diàn）源，在蒸發源與基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區，基片電極上接直（zhí）流負高壓，從而形成輝光放電陰極，鍍料氣化原子進（jìn）入此區域與（yǔ）惰（duò）性氣體離子及電子發生碰撞（zhuàng），離化後的離子及氣體離（lí）子以較高能量轟擊鍍層表麵，將蒸發物或其反應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖