多弧離子鍍膜（mó）機（jī）是近年新開（kāi）發的真空離子鍍膜技術，利用（yòng）真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技（jì）術，是先發（fā）展起（qǐ）來的真空鍍膜方式（shì），具有沉積速率高快，結（jié）合牢固，設備運行穩定等優點，我公（gōng）司在（zài）傳統多弧的基礎上，封靶（bǎ）結構、磁鐵、冷卻等進（jìn）行（háng）了嚴格的改進和設計，提高了離化率，細（xì）化顆粒，膜層和基材結合牢固，膜層更加（jiā）致密，硬度耐磨性提高，適用（yòng）於鍍製裝飾膜（mó）如：金色的氮化鈦，黑色（sè）碳化鈦，七彩（cǎi）的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐觸膜（如AL、Cr不鏽鋼及TIN等）和耐磨（mó）膜。膜層與基底結合牢固，適合於手表、五金、餐（cān）具及要求耐磨超硬的刀具、模具等（děng）。具有很好的發展前景。

設備特性
       生產（chǎn）同期：生產同期短-270sec/1同期（幹燥無大量放氣（qì）產品條（tiáo）件）
       鍍膜材料：通用於各種金屬鍍（dù）膜（鋁、鎳、銅（tóng）、鉻……等金屬材料）
       鍍膜方式：金屬濺射鍍膜，膜厚分布均勻
       鍍膜品質：亮度高、附著力強
       鍍膜速度：兩個20Kw大功率磁控製濺射電機，可以調動功率來控製鍍（dù）膜速度
       除濕能（néng）力：真空室（shì）內裝有（yǒu）雩下140度以下的低溫（wēn）冷凍係統，充分（fèn）吸收濕（shī）氣提高真空到達（dá）速度
       運（yùn）營費用：濺射（shè）電（diàn）極是自行開發產品，大（dà）大提高了靶材的使用效率
       占地麵精：在固定位置進行上料和下料隻要很小的操作空間
       操作方法：人機界麵可以直觀的進行設置和監控，設有管理密碼無關人員無法更改
       售後服務：設有售後服務中（zhōng）心和配（pèi）件（jiàn）倉庫，可（kě）以快速處理使用中的問題

設備原理圖示
       在適當的真空（kōng）環境（jìng）下，接通高壓電源，在蒸發源與基片間建（jiàn）立（lì）一個低壓氣體放電的低溫等離子區，基片電極上接直流負高壓（yā），從而形（xíng）成輝光放電陰極，鍍料（liào）氣化原子進（jìn）入此區域與惰性（xìng）氣體離（lí）子及電子發（fā）生碰撞，離化後的離子及（jí）氣體離子以較高能量轟擊（jī）鍍層表麵，將蒸發物或其反應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖