17.c-起草一起來分析一下真空鍍膜設備的定義（yì）-行業詮釋 ，真空鍍膜設備主（zhǔ）要指一類需要在（zài）較高真空度下進行的鍍（dù）膜。具體包括很（hěn）多種（zhǒng）類，包括真空離子蒸（zhēng）發，磁控濺射，MBE分子（zǐ）束（shù）外延（yán），PLD激光濺射沉積（jī）等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的（de）被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基（jī）片與靶材同在（zài）真空腔中。

       蒸發鍍（dù）膜一般是加熱（rè）靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表（biǎo）麵，通（tōng）過成膜過程（chéng）（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生（shēng）長）形（xíng）成（chéng）薄膜（mó）。

       對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且（qiě）沉積在基片表麵，經曆成膜過程，形（xíng）成薄膜。
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