分析（xī）真空鍍膜（mó）機的化學成（chéng）分

       真（zhēn）空鍍膜機的薄膜均勻性概念：
       1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光（guāng）學薄膜的尺度上看（kàn）(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆（sōng）將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於薄膜的光學特（tè）性來說，真空鍍膜沒有（yǒu）任何障礙。 但是如果（guǒ）是指原（yuán）子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，具體控製因素下麵會根據不同鍍（dù）膜給出詳細解釋。
       2、化學組（zǔ）分上的均勻（yún）性：就是說在（zài）薄膜中，化（huà）合物的原子組分會由於尺度過小而很（hěn）容（róng）易的產生不均勻（yún）特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過（guò）程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並不是想要的膜的化學成（chéng）分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下麵給出。
       3、晶格有序度的均勻性（xìng）：這決定（dìng）了薄膜（mó）是單晶，多晶（jīng），非（fēi）晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。