所謂多（duō）弧（hú）離子鍍（dù）膜就是置待鍍材料和（hé）被鍍基板於室內，真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜采用對（duì）應方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行（háng）濺射到被鍍基板（bǎn）表麵凝（níng）聚成膜的工藝。
　　多弧離子鍍膜（mó）的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優點，可減（jiǎn）少蒸（zhēng）發材料的原子（zǐ）、分子在飛向基（jī）板過程中於分子的碰撞，減少氣（qì）體中的（de）活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化（huà）等），以及減少成膜過程中氣（qì）體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密（mì）度、純度、沉積速率和與（yǔ）基板的附著力。
　　真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜工（gōng）藝不但避免了傳統表（biǎo）麵處（chù）理的不足，且各項技術指標不錯，在五金、機械、化工、模具、電（diàn）子、儀（yí）器（qì）等（děng）領（lǐng）域有很廣應用（yòng）。催化液（yè）和（hé）傳統處理工藝相比，在技術上有哪些改進？
　　1、多弧離子鍍膜不用電、節省了成本、成本為多弧離子鍍膜鎳（niè）的二分之一，真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜鉻的三（sān）分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大大節省了成本。
　　2、多弧離子（zǐ）鍍膜易操（cāo）作、工藝簡單、把（bǎ）金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不（bú）經處理。