大家知道物件鍍膜在常（cháng）壓下蒸鍍膜料不（bú）能形（xíng）成想要的薄膜，事（shì）實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的（de）情況下同樣（yàng）得不到好（hǎo）的（de）結果（guǒ），比如在10托數量（liàng）級（jí）下蒸鍍鋁，獲得的膜層不但不光亮，甚至發灰、發黑，而且機（jī）械強度差，用毛刷輕輕一刷就（jiù）可以將鋁（lǚ）層破壞。蒸（zhēng）鍍要在真空條件下（xià）進行，這（zhè）是因為：
　　1、較高的真空度可以讓汽化（huà）分子的（de）平均自由程大於蒸發源到基底的距離。由於氣體分子的熱（rè）運動，分子之（zhī）間的碰撞也是很常見的，所以盡管氣體（tǐ）分子運動的速度相當的高(可（kě）達每秒幾百米)，但是（shì）由於它在（zài）前進（jìn）的過（guò）程中要與其它分子多次碰（pèng）撞，一（yī）個分子在兩次連續碰撞（zhuàng）之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統計平（píng）均值就被稱為分子的平均自由程。
　　由於氣體壓強與單位體積的分子數成正比，因此平（píng）均自由程與氣體的（de）壓強亦成正比。在真空澱積薄膜過程中，當澱積距（jù）離大於分子的平均自（zì）由程（chéng）時被稱（chēng）為低真空澱積，而當澱積距離小於分子的平均自由程時被稱為（wéi）高真空澱積。在高真空澱積時，蒸（zhēng）發原子(或（huò）分子)與殘餘氣體分子間（jiān）的（de）碰撞可以忽略不計，因此汽化原子是沿直線（xiàn）飛向基片的，這樣（yàng）保持較大動能到達基片的汽化原子可以（yǐ）在基片上凝結（jié）成較牢固的（de）膜層。在低真空澱積時，由於碰撞的結果會使汽化原子的速度和方向都發生變化，可能在空間生成蒸汽原子集合體—其道理與（yǔ）水蒸汽在大（dà）氣中生成霧相似。
　　2、在較高的真空度下可以減少（shǎo）殘餘氣體的汙染在真空度不太高的情況下，真空室內含有眾多的殘餘氣體分子(氧、氮、水（shuǐ）及碳氫化合物等)，它們能給薄（báo）膜的鍍（dù）製帶（dài）來很大的（de）危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程（chéng）變短；它們與正在成膜的表麵碰（pèng）撞並與之反應（yīng）；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發（fā）源高溫化合減少（shǎo）其使用壽命；它們在已蒸（zhēng）發（fā）的（de）膜料表麵上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進行。
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