隨著鍍膜技術的發展，各類真空鍍膜機（jī）也逐漸出現，不管是哪種真空鍍膜機，薄（báo）膜的均勻性都會受到一些因素的影響。現在，17.c-起草就以磁（cí）濺射真空鍍（dù）膜（mó）機來分析（xī）成膜不均勻的（de）因素。
       鍍膜機抽氣不均會影響鍍膜均（jun1）勻性。基片幹淨很重要。真空（kōng）鍍膜前要將基片（piàn）表麵認（rèn）真清潔幹（gàn）淨，達到工件去油、去（qù）汙和（hé）脫水的（de）目的。基板表（biǎo）麵汙染從零件在加工，運輸等過程中附著的各種各樣的灰塵（chén）、油脂（zhī）、拋光膏、汗漬等（děng），在潮濕環境下，基片（piàn）表麵易氧化（huà），形成氧化膜吸附氣體。對於這些汙物，都能用去油或化學方法清洗（xǐ）幹淨。幹淨的基片不要直接放在外麵（miàn），需要用封閉容器存放，減少沾汙。鍍膜室內也是會積灰的（de），所（suǒ）以要清洗鍍膜（mó）室內，烘（hōng）烤除氣，並將機器放置在幹淨的環境裏。注意擴散泵返（fǎn）油。鍍膜的原材料有很（hěn）多，如樹脂、矽酮、矽鹽酸、聚（jù）合物等（děng），輔料、配方的比列有所不同，薄膜也不同。
       以（yǐ）上就是真空鍍膜機成膜不均（jun1）勻的因素。